China lanza el primer estándar de generador de ozono de grado semiconductor, impulsando la industria nacional de equipos semiconductores

La industria china de semiconductores ha alcanzado un hito importante con el lanzamiento oficial y la implementación del primer estándar grupal del país para generadores de ozono de grado semiconductor. Publicados el 9 de diciembre de 2025, los "Requisitos técnicos para generadores de ozono de grado semiconductor" (T/CIET 1946-2025) fueron dirigidos por Qingdao Guolin Semiconductor Technology Co., Ltd. en colaboración con 17 empresas líderes en toda la cadena de suministro de semiconductores.

Este estándar histórico llena un vacío crítico en las especificaciones técnicas nacionales para los equipos de ozono utilizados en la fabricación de semiconductores y pantallas de paneles. Los generadores de ozono desempeñan un papel indispensable en procesos clave de semiconductores, incluida la deposición de películas delgadas, la limpieza de obleas y la eliminación de fotoprotectores, donde su rendimiento técnico y su confiabilidad impactan directamente en el rendimiento de la fabricación de chips.

La tecnología de las máquinas de ozono se ha vuelto esencial en las modernas fábricas de semiconductores, donde los requisitos de limpieza de las superficies han alcanzado una precisión de nivel atómico. Pruebas de laboratorio recientes demuestran que los sistemas avanzados de limpieza con ozono UV pueden reducir los contaminantes orgánicos en las obleas de silicio de 50 nm a solo 0,5 nm, logrando una mejora de 100 veces en la eficiencia de la limpieza en comparación con los métodos tradicionales. Este nivel de precisión es fundamental a medida que la industria avanza hacia nodos de proceso de 5 nm y 3 nm.

Los generadores de ozono industriales diseñados para aplicaciones de semiconductores utilizan descarga de corona o métodos ultravioleta para generar concentraciones de ozono precisas adaptadas a requisitos de fabricación específicos. A diferencia de los procesos de limpieza húmeda convencionales que dependen del ácido sulfúrico y el peróxido de hidrógeno, que pueden dejar residuos químicos y generar importantes aguas residuales, la limpieza a base de ozono ofrece una alternativa seca y sin residuos que se descompone naturalmente en oxígeno después de su uso.

El estándar recientemente establecido se desarrolló a través de una amplia colaboración que involucró a actores clave de la industria, incluidos Beijing North Huachuang Microelectronics Equipment Co., HuaHai Qingke Co., Tuojing Semiconductor Equipment y Shengmei Semiconductor Equipment, entre otros. Esta amplia participación de la industria garantiza el rigor científico, la aplicabilidad y la representatividad del estándar en todo el ecosistema de semiconductores.

Las aplicaciones de las máquinas de desinfección con ozono van más allá de la limpieza de obleas e incluyen procesos de oxidación avanzados para eliminar contaminantes orgánicos de equipos e instalaciones de fabricación de semiconductores. La tecnología elimina eficazmente los residuos de fotoprotectores, los rastros de disolventes orgánicos y los contaminantes moleculares en el aire que pueden comprometer el rendimiento de los chips.

El esfuerzo de estandarización, que comenzó con la aprobación del proyecto en marzo de 2025 y concluyó con la publicación final en diciembre de 2025, establece especificaciones técnicas integrales y puntos de referencia de confiabilidad para los equipos de generación de ozono. Esto proporciona a los fabricantes de semiconductores criterios claros y cuantificables para la selección de equipos y la validación de procesos.

Los analistas de la industria proyectan que el mercado mundial de generadores de ozono alcanzará los 2.360 millones de dólares para 2030, creciendo a una tasa compuesta anual del 8,0%, impulsado en parte por el aumento de las inversiones en infraestructura de fabricación de semiconductores y la necesidad de soluciones de limpieza avanzadas. El nuevo estándar chino posiciona a los fabricantes nacionales para competir de manera más efectiva en este mercado en expansión y al mismo tiempo respalda la iniciativa nacional más amplia para fortalecer las capacidades nacionales de equipos semiconductores.

De cara al futuro, se espera que la implementación de esta norma acelere la adopción de generadores de ozono de producción nacional en las fábricas de semiconductores chinas, reduciendo la dependencia de equipos importados y garantizando al mismo tiempo una calidad y un rendimiento constantes. A medida que la industria de los semiconductores continúa su rápida expansión, la tecnología de ozono estandarizada desempeñará un papel cada vez más vital para permitir los entornos de fabricación precisos y libres de contaminación necesarios para la producción de chips de próxima generación.